在半导体工业中,TMAH作为正性光刻胶显影液的核心材料,用于集成电路和显示面板的制造工艺。其2.38%水溶液是标准的显影液浓度,能够精确控制图形精度 。
在硅片制绒领域,TMAH替代传统的NaOH/IPA溶液,用于制备减反射金字塔绒面。典型配方为2% TMAH + 5% IPA,在80°C下腐蚀10分钟,可使反射率降低40%。
在纳米材料合成方面,TMAH用于水热法制备Ti/TiO₂纳米结构,实现氮/碳自掺杂,拓展光吸收至近红外区域。
在分析化学中,TMAH作为衍生化试剂用于气相色谱分析,快速制备羧酸甲酯。
此外,TMAH还作为有机硅合成的催化剂、相转移催化剂和极谱分析试剂等